纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计.pdf 本书内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理设计和可靠性；DFM工具和DFM方法等。 叁号仓库 2022年07月17日 0 点赞 0 评论 4336 浏览
