金属半导体接触

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本书为金属半导体接触方面的专著,主要介绍一些金属与常用半导体锗、硅、砷化镓等Ⅲ-Ⅴ族化合物之间肖特基势垒和欧姆接触的形成,势垒中的电流输运机理和势垒电容的性质,以及势垒高度等重要参数的测量方法.本书综合了近十年来的大量实验结果,并与各种理论模型进行了比较.对实际接触中通常出现的问