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等离子体放电原理与材料处理.pdf

本书阐述了等离子体物理和化学的基本原理及工业等离子体材料处理的原理,并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积,离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用,反映本领域的最新研究进展。