超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第1册.pdf
本书主要介绍用于超大规模集成电路中的有关材料的性质及材料的理化检测技术．全书共四章，分别介绍了材料的电学特性、物理缺陷及杂质行为等方面的检测技术；硅材料中的有害点缺陷和晶体应变在化学上、结构上、电学上的各种行为以及各种消除有害效应的措施；各种过渡金属硅化物的形成工艺及特性分析．在
超大规模集成
超大规模集成电路设计. Ⅱ : 逻辑与测试.pdf
本书从基础理论到最新发展，介绍了集成电路设计中的逻辑设计与测试技术。其中包括布尔代数、逻辑设计、逻辑模拟、测试系统的生成及易测性设计。
超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于
超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第3册.pdf
本书是《超大规模集成电子学微结构科学》的第三册．本册集中介绍了集成电路工艺中精细图形的成形和转换技术．全书共六章，前五章分别阐述了普通紫外光、电子束、X线和离子束光刻及等离子刻蚀方面的基本内容和进展，还介绍了精细图形的测量问题；最后一章介绍了精细粒子情况下的材料、物理和化学问题．
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