超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于
超大规模集成
超大规模集成电路制造工艺的计算机辅助设计.pdf
本书比较全面地介绍了超大规模集成电路制造工艺的计算机辅助设计．内容包括：氧化、扩散、离子注入、化学汽相淀积、界面杂质分凝等模型及其模拟程序的执行过程． 书中论述了现有的理论公式、经验公式或因数据有限未能建立经验公式等三类物理化学问题在计算机上实现模拟的方法．
超大规模集成电路系统导论.pdf
本书从系统设计的角度出发阐述了超大规模集成电子学与计算机科学相互结合向前发展的趋势．全书共九章．第一、二章介绍了MOS器件、电路及其制备基础；第三、四章介绍了系统设计基础及其实现方法；第五、六章举了一个大规模集成电路系统的设计实例；第七至九章分别介绍了系统定时、高并行系统及计算系
超大规模集成电路的设计与分析.pdf
本书介绍了基本电路形式，并定性地分析了设计方法，介绍了MOS器件物理制造工艺以及逻辑和电路设计技术，时钟方法、陈列电路，以及VLSI系统的微结构设计。
超大规模集成电路 : 基础·设计·制造工艺.pdf
本书介绍VLSI的特征及作用、VLSI的设计、逻辑电路、逻辑VLSI、半导体存储器、集成工艺、平板印刷、刻蚀、氧化、不纯物导入、绝缘膜堆积等内容。
超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第3册.pdf
本书是《超大规模集成电子学微结构科学》的第三册．本册集中介绍了集成电路工艺中精细图形的成形和转换技术．全书共六章，前五章分别阐述了普通紫外光、电子束、X线和离子束光刻及等离子刻蚀方面的基本内容和进展，还介绍了精细图形的测量问题；最后一章介绍了精细粒子情况下的材料、物理和化学问题．
程序设计语言与超大规模集成电路.pdf
本书前两章讨论了现有的软件中的重要概念,后三章介绍了面向目标的程序设计语言-Smalltalk-80语言,执行Smalltalk-80的虚拟机器及有效地实现虚拟机器的微处理器的设计。
超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第1册.pdf
本书主要介绍用于超大规模集成电路中的有关材料的性质及材料的理化检测技术．全书共四章，分别介绍了材料的电学特性、物理缺陷及杂质行为等方面的检测技术；硅材料中的有害点缺陷和晶体应变在化学上、结构上、电学上的各种行为以及各种消除有害效应的措施；各种过渡金属硅化物的形成工艺及特性分析．在
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