等离子

等离子体天体物理.pdf

等离子体天体物理是研究在宇宙条件下等离子体特征过程的一门新学科.本书系统地论述等离子体天体物理理论,从微观角度叙述宇宙条件下各种等离子体过程的相互转换,提出了解决天体物理中涉及等离子体过程的重要问题以及新发现现象的途径.书中着重阐明现象的物理图象.全书共分四章,第一章简要介绍等离

纳米等离子激元材料及其生物医学应用.pdf

  本书是关于纳米等离子激元材料及其生物医学应用的专著。全书较为详细地介绍了纳米等离子激元概念及原理、常见的纳米等离子激元材料以及等离子激元材料界面功能化与组装技术等,着重介绍了近年来基于纳米等离子激元材料发展而来的一些新型生物检测与成像技术,特别是等离子激元SPR技术、SERS

有一无色、无气味的澄清液体,其中可能有OH-、SO42-、Cl-、NH4+、Al3+等离子.进行如下试验:  (1)用PH试纸检验,pH值约为10:  (2)取少量溶液加入硝酸酸化,再加BaCl2溶液,没有出现沉淀;  (3)另取少量溶液,加入AgNO3溶液,有白色沉淀,再加硝酸,沉淀不消失;  (4)又取少量溶液,稍加热,未发现任何变化.  根据实验现象判断有____离子存在,没有____离子存在.

有一无色、无气味的澄清液体,其中可能有OH-、SO42-、Cl-、NH4+、Al3+等离子.进行如下试验:  (1)用PH试纸检验,pH值约为10:  (2)取少量溶液加入硝酸酸化,再加BaCl2溶液,没有出现沉淀;  (3)另取少量溶液,加入AgNO3溶液,有白色沉淀,再加硝酸,沉淀不消失;  (4)又取少量溶液,稍加热,未发现任何变化.  根据实验现象判断有\_\_\_\_离子存在,没有\_\

等离子体高能合成射流 夏智勋等 著.pdf

本书介绍等离子体高能合成射流及其高速主动流动控制技术研究成果,内容包括绪论、等离子体高能合成射流模型及测量方法、等离子体高能合成射流放电及能量效率特性、等离子体高能合成射流流场特性、等离子体高能合成射流阵列工作特性、等离子体高能合成射流在航空航天领域的应用等。

等离子体离子源物理与技术.pdf

本书对目前各类等离子体离子源的工作原理、特点、水平及正在研究中的问题作了较详细的论述(第二章、第三章、第四章);对离子束的引出、空间电荷的作用及其补偿问题,也作了较系统的讨论(第五章、第六章);最后对气体放电离子源中存在的一个重要问题——不稳定性和振荡作了一般介绍(第七章).

等离子体放电原理与材料处理.pdf

本书阐述了等离子体物理和化学的基本原理及工业等离子体材料处理的原理,并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积,离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用,反映本领域的最新研究进展。

固体等离子体理论及应用.pdf

1998年,法国Ebbesen等发表了关于金属表面亚波长小孔阵列增强远场透射的著名论文,引发了国际上对表面等离子体深入而广泛的研究,促使了表面等离子体学的形成。本书是作者参加2011年973项目“固态微结构中光诱导集体激发、光电耦合效应及其原型器件研究(2011CB922200)

等离子涂层.pdf

本书介绍了等离子喷涂过程的物理化学研究,分析了涂层形成过程各阶段的能量条件和物理化学变化,探讨了影响涂层结合强度的各种因素,并在大量实验和理论计算数据的基础上,提出了一些动力学的定量关系.此外,还分析了涂层内应力,介绍了改善等离子涂层性能的工艺途径和涂层的各种应用.

等离子体光子晶体理论.pdf

光子晶体是介质在空间中的周期性分布,作为一种新的“光子”材料已广泛应用于各种微波器件的设计中。由于等离子体的可调性,等离子体光子晶体较传统的光子晶体具有更为广泛的应用前景。全书共14章:第1~4章介绍光子晶体以及等离子体光子晶体的基本概念和发展现状以及等离子体的物理特性和