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超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于

超大型集装箱船典型结构焊接变形预测及控制技术.pdf

本书基于并行计算技术的热弹塑性有限分析方法,计及多层多道焊中的重熔现象,在探明超大型集装箱船复杂结构抗扭箱和横舱壁等典型结构各接头的温度场和应力变形场的变化规律,获取典型对接接头和角接接头的固有变形而形成固有变形数据库的基础上,高效精确地预测了典型复杂结构的焊接变形,并提出对称顺

超大容量硬盘的流场性能研究(英文).pdf

本书结合多物理场有限元建模仿真、流体力学理论建模与算法求解、蒙特卡罗与分子动力学模拟方法,跨尺度系统研究了超大容量硬盘超低磁头飞行高度条件下磁头的飞行稳定性问题。主要内容包括:硬盘内部流体与颗粒运动特性、悬臂梁的流致振动及PZT声压抑制振动、颗粒污染物在磁头空气轴承面上的运动吸附

超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第1册.pdf

本书主要介绍用于超大规模集成电路中的有关材料的性质及材料的理化检测技术.全书共四章,分别介绍了材料的电学特性、物理缺陷及杂质行为等方面的检测技术;硅材料中的有害点缺陷和晶体应变在化学上、结构上、电学上的各种行为以及各种消除有害效应的措施;各种过渡金属硅化物的形成工艺及特性分析.在

超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第2册.pdf

本书是《超大规模集成电子学 微结构科学》的第二册。全书共六章,分别介绍了用于超大规模集成电路中的一些器件和介质材料的特征、电学性质、物理限制及检测与分析方法.  本书可供从事大规模和超大规模集成电路研制和生产的研究人员、工程技术人员及大专院校有关专业师生、研究生参考.

纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计.pdf

本书内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势;半导体制造技术;光刻技术;工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模;面向可制造性的物理设计技术;测量、制造缺陷和缺陷提取;缺陷影响的建模和合格率提高技术;物理设计和可靠性;DFM工具和DFM方法等。

程序设计语言与超大规模集成电路.pdf

本书前两章讨论了现有的软件中的重要概念,后三章介绍了面向目标的程序设计语言-Smalltalk-80语言,执行Smalltalk-80的虚拟机器及有效地实现虚拟机器的微处理器的设计。

视觉感知的模拟超大规模集成电路实现 | 影印版.pdf

计算神经系统科学是一个正在兴起的研究领域,近年来已经成为许多国家政府资助的研究方向,吸引着许多青年研究人员。本书分析了视觉运动感知的计算问题、模拟网络的优化方法等,最有特色处在于从大规模集成电路实现的角度分析了视觉运动处理的原理和算法,可以借助大规模集成电路的高集成度、低成本等优