超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于
超大规模集成电路
超大规模集成电路系统导论.pdf
本书从系统设计的角度出发阐述了超大规模集成电子学与计算机科学相互结合向前发展的趋势．全书共九章．第一、二章介绍了MOS器件、电路及其制备基础；第三、四章介绍了系统设计基础及其实现方法；第五、六章举了一个大规模集成电路系统的设计实例；第七至九章分别介绍了系统定时、高并行系统及计算系
超大规模集成电路制造工艺的计算机辅助设计.pdf
本书比较全面地介绍了超大规模集成电路制造工艺的计算机辅助设计．内容包括：氧化、扩散、离子注入、化学汽相淀积、界面杂质分凝等模型及其模拟程序的执行过程． 书中论述了现有的理论公式、经验公式或因数据有限未能建立经验公式等三类物理化学问题在计算机上实现模拟的方法．
超大规模集成电路 : 基础·设计·制造工艺.pdf
本书介绍VLSI的特征及作用、VLSI的设计、逻辑电路、逻辑VLSI、半导体存储器、集成工艺、平板印刷、刻蚀、氧化、不纯物导入、绝缘膜堆积等内容。