章嵩

基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究.pdf

  本书旨在利用脉冲激光沉积技术,将其分别采用碳化硼陶瓷靶与硼碳拼合靶为靶材。通过对靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参数的调整,得到表面平整、厚度均匀及成分可控的富硼B-C薄膜,建立靶材成分、组成形式和沉积温度等工艺参数与薄膜组成、结构之间的关系,对该系列薄膜的生长机理进行分析