光刻

超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于

光致抗蚀剂 : 光刻胶.pdf

本书综述了光致抗蚀剂(简称光刻胶)使用、生产与研究的现状.重点论述了光致抗蚀剂的类型、感光机理、感光度和光刻工艺,并详细地介绍了几种光致抗蚀剂的合成方法,对光致抗蚀剂的发展趋向也作了简要的分析和讨论. 本书作为技术参考书,可供从事半导体电子器件研究与生产单位的工人