超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf 光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于 叁号仓库 2022年07月19日 0 点赞 0 评论 9728 浏览
光致抗蚀剂 : 光刻胶.pdf 本书综述了光致抗蚀剂（简称光刻胶）使用、生产与研究的现状．重点论述了光致抗蚀剂的类型、感光机理、感光度和光刻工艺，并详细地介绍了几种光致抗蚀剂的合成方法，对光致抗蚀剂的发展趋向也作了简要的分析和讨论． 本书作为技术参考书，可供从事半导体电子器件研究与生产单位的工人 叁号仓库 2022年07月15日 0 点赞 0 评论 5425 浏览
